计中牵扯到 2 个主要参数（LAB、 K），需同时满足目标值，所以将 LAB 进行优化设定，
而 K 值通过 sweep 生成多个拓扑结构进行选取。
（1） 先将‘turns’设置为 3，直接，看看默认这些物理参数条件下 LAB 大概是
多少，结果尽量在目标值 1.5nH 左右， 方便后续优化 sweep 迭代。
（2） 对 LAB 进行优化，选‘Outer Radius’进行调整，目标值 1.5n， 频率点就默认的
即可。（反正看的是全频段结果，在高频时应该感值会增加）
（3） Sweep 设置， 为了得到较多的物理拓扑结构， 选择 2 个物理尺寸进行扫描（线
宽 w 和线间距 S），将‘Width’和‘Spacing’设置为变量 w、 s 后，点击‘OK’，
会弹出变量设置对话框。设置 s、w 的起止尺寸和点数（注意不要违反 DRC rule）。
本例中 w 设置 6 个点， s 设置 5 个点，这样会有 30 个拓扑结构， 那么 K 值选择
范围会大些。
（4） 类型自行选择，本例为了快速，选择的低精度‘interconnect’。也仅生
成 nport 模型，没有勾选集总 PBM 模型。
eakView产品特点：
1. 集成化的设计平台
?能与Cadence、Synopsys的射频模拟集成电路设计环境无缝集成；
?能与Cadence和Mentor的版图寄生参数提取工具无缝集成；
?支持Synopsys Hspice模型；
2.基于MOM矩量法的全波电磁场算法，速度快，精度高，是IC设计专用的电磁场验证软件
3.精度高，能够满足从直流到毫米波设计精度要求；
4.设计完全基于制成工艺，支持各种Fab的制成工艺，工艺信息一键导入；
5.内置电感、巴伦、交指电容，变压器，传输线、T-coils、多层叠层电感等片上无源器件模型库P-circuit，帮助客户进行无源器件的设计、综合与优化；
6.完善的技术支持团队以及售后服务体系；
体电阻率和方块电阻是一个意思，终都会折算到金属电导率，其差异变化会影响金属层电导率波动。电导率波动会直接影响EM结果，例如器件损耗等；线宽波动也会直接对EM结果带来差异影响，例如L、Q等。
下面截图是PDK中LDE信息：
Peakview软件的配置文件中考虑了LDE，保证精度更接近实测结果。在当前先进的工艺中，更能提升流片成功率。在一些7nm等先进工艺中，PDK信息是加密的，这种LDE信息已不能靠人工处理，peakview可以通过软件自动解析进行加载，为工作带来精度保证和便利。
Peakview会识别PDK中的LDE信息，转换配置文件时以方块电阻变化表、线宽变化表映射LDE信息。时peakview根据不同的设计尺寸来查表，调用实际的方块电阻和线宽值，确保结果更接近实测值。