NPC-4000（M）等离子去胶机（刻蚀机）概述：NANO-MASTER 等离子去胶和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。
NPC-4000（M）等离子去胶机（刻蚀机）产品特点：
紧凑型立式系统
手动上下载片
不锈钢、铝制腔体或钟罩式耐热玻璃腔
兼容100级超净间使用
淋浴头、ICP或微波等离子源
旋转样品台
RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台
全自动或手动RF调谐
z多可支持8个MFC带电抛光的气体管路
PC计算机控制的气动阀
带密码保护的多级访问控制
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
机械泵的压力可达到10mTorr
250 l/s的涡轮分子泵
J限真空为5x10-7Torr
完整的安全联锁
NPC-4000（M）应用：
有机物以及无机物的残留物去除
光刻胶剥离或灰化
去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用
清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架
提高黏附性，消除键合问题
塑料的表面改型：O2处理以改进涂覆性能
产生亲水或疏水表面