科研磁控溅射用高纯镍靶材Ni高纯镍靶加工

发布日期 :2021-08-04 11:19 编号:6740499 发布IP:124.238.163.24
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北京晶迈中科材料技术有限公司  
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晶迈中科
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详细介绍
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 科研磁控溅射用高纯镍靶材Ni高纯镍靶加工磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
       镍(Ni)是银白色金属,具有磁性和良好的可塑性,耐腐蚀,溶于硝酸后,呈绿色;不溶于水,常温下在潮湿空气中表面形成致密的氧化膜,能阻止本体金属继续氧化。耐强碱,盐酸、硫酸、有机酸和碱性溶液对镍的浸蚀极慢。镍在稀硝酸缓慢溶解。因为镍的抗腐蚀性佳,常被用在电镀上;镍镉电池含有镍;用于合金(如镍钢和镍银)及用作催化剂(如兰尼镍,尤指用作氢化的催化剂)。
产品参数
中文名 镍            元素符号 Ni
原子量 58.69         沸点 2913℃
熔点 1455℃          密度 8.908g/cm3
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
      陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
 
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
 
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
 
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
中科

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