双面研磨机
双面研磨机（double side lapping machine）主要用于两面平行的机械零件或晶体进行双面研磨，特别是薄脆性材料的加工。适用于各种材质的机械密封环、陶瓷片、气缸活塞环、油泵叶片、轴承端面/硬质合金、不锈钢、粉末冶金等金属材料及硅、锗、石英晶体、石墨、蓝宝石、光学水晶、玻璃、铌酸锂等晶体的平面研磨和抛光。
平面研磨机对工件进行研磨抛光加工的步骤
1、利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工(见切削加工)、研磨可用于加工各种金属和非金属材料，加工的表面形状有平面，双面磨生产厂家，内、外圆柱面和圆锥面，凸、凹球面，螺纹，齿面及其它型面。加工精度可达IT5～01，表面粗糙度可达R 0.63～0.01微米。
2、研磨方法一般可分为湿研、干研和半干研 3类。
①湿研：又称敷砂研磨，把液态研磨剂连续加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件与研具间不断滑动和滚动，形成切削运动。
②湿研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7。
③干研：又称嵌砂研磨，把磨料均匀在压嵌在研具表面层中，研磨时只须在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等辅助材料。干研常用于精研磨，所用微粉磨料粒度细于W7。
④半干研：类似湿研，所用的研磨液是糊状研磨膏。研磨既可用手工操作，也可在平面研磨机上进行。工件在研磨前须先用其它加工方法获得较高的预加工精度，所留研磨余量一般为5～30微米。
3、研具是使工件研磨成形的工具，同时又是研磨液的载体，硬度应低于工件的硬度，又有一定的耐磨性，常用灰铸铁制成。湿研研具的金相组织以铁素体为主；干研研具则以均匀细小的珠光体为基体。研磨M5以下的螺纹和形状复杂的小型工件时，常用软钢研具。研磨小孔和软金属材料时，大多采用黄铜、紫铜研具。研具应有足够的刚度，其工作表面要有较高的几何精度。研具在研磨过程中也受到切削和磨损，如操作得当，它的精度也可得到提高，使工件的加工精度能高于研具的原始精度。
4、正确处理平面研磨机进行研磨的运动轨迹是提高研磨质量的重要条件。在平面研磨中，一般要求：
①工件相对研具的运动，要尽量保证工件上各点的研磨行程长度相近；
②工件运动轨迹均匀地遍及整个研具表面，以利于研具均匀磨损；
③运动轨迹的曲率变化要小，以保证工件运动平稳；
④工件上任一点的运动轨迹尽量避免过早出现周期性重复。为了减少切削热，研磨一般在低压低速条件下进行。粗研的压力不超过 0.3兆帕，精研压力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般为20～120米/分，精研速度一般取10～30米/分。
5、互相配合的工件常采用配研方法。配研前，两工件先需要经过单件研磨，然后在两工件配合表面间加入研磨液，两工件互为研具，通过配研消除阻碍精密配合的微观峰部，使配合表面相互吻合。
双面研磨机和单面研磨机的区别
一、单面研磨机是一次只能研磨工件一个面的机器；双面研磨机则是一次性可以同时对工件的正反两个面同时进行研磨抛光。
二、两者设备的装置基本相同，同一类型工件所用的耗材和配置是一样的。 机器的研磨原理和适用范围是一样的。不同的地方表现在双面研磨机上面有两个研磨盘，上研磨盘和下研磨盘，两者平行。而单面研磨机上只有一个研磨盘。
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