化学机械抛光液一般由去离子水、 磨料、ph值调节剂、氧化剂以及分散剂等添加剂组成，根据ph值不同， 分为酸性和碱性。
化学抛光液及其组分的作用.
1磨料
磨料在抛光过程中主要通过微切削、微划擦、滚压等方式作用于工件被加工表面，去除表面材料。的化学机械抛光过程是磨料的机械去除表面材料
厚度等于化学反应生成物层厚度，抛光垫厂家，此时，磨粒只需较小的机械作用去除结合力较弱的化学反应层的生成物，可减少或避免抛光表面缺陷。磨料的硬度、粒
径形状及其在抛光液中的质量浓度等综合因素决定了磨粒的去除行为和能力。
优抛光布良的洁净能力及污垢；先进的涂布技术及特殊设计结构，能有效预防涂层的脱落；精选的磨料及布基能有效避免划伤。应用编辑TFT-LCD液晶面板制程中玻璃基板表面的清洁，清洁对象包括灰尘、污染物，抛光垫市场，Mark笔笔迹、指纹，密封残胶，玻璃碎屑。砂纸，具有良好的防水性、耐久性、寿命长。表面砂粒均匀，的研磨特性，无锡抛光垫，可以地减少了样品的变形。背胶砂背面为透明PET离型膜，便于清晰的看清砂纸粒度，且具有适当的粘性，使用后不残胶等优点。
磨料相对工件的硬度对磨料的作用机制有着重要影响。当磨粒硬度相对工件太大时， 在抛光压力作用下很容易导致磨粒嵌入工件表面，抛光垫的作用，在抛光表面残留划
痕磨蚀坑;磨粒硬度相对于工件太小时，又会延长加工时间。研究表明抛光过程中纳米磨料所发生的自身变形量与磨料的硬度成反比，硬度低的纳米磨
料由于自身变形量大，切入工件的深度小，工件抛光表面粗糙度低。
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