钨靶材主要应用于航天、稀土冶炼、电光源、化工设备、医疗器械、冶金机械、熔炼设备、石油、等领域。
中文名：钨靶材
原子序数：74
元素符号：W
密 度 ： 19.3/立方厘米
熔 点 ： 3410℃
沸 点 ： 5927℃
纯 度：99.95%以上
表 面：碱洗或磨光
特点： 喷涂、烧结后的钨靶,具有99%的密度甚至更高、平均透明纹理的直径为100um甚至更小、含氧20ppm或更少，偏转角力为500Mpa左右的特性；提高未加工金属粉末的生产，提高烧结的能力，可以使钨靶的成本稳定在一个低价位。烧结后的钨靶密度高，具有传统的压制烧结方法所无法达到的高水准的透明框架，并且明显改善了偏转角力，以致颗粒物显著的减少。
