光刻胶稳定性
化学稳定性:在正常储存和操作条件下,在密闭容器中室温稳定。
避免的条件: 火源、湿气、过热的环境。
不相容的其他材料: 强氧化剂。
光刻胶毒理资料
淡黄色液体,气味微弱。引起皮肤、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激。可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状。液体是可燃的。
毒性数据
皮肤:可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状,类似于吸入。长时间或重复接触可引起轻度至中度的刺激或皮炎。
眼睛:引起眼睛发炎。
吸入:吸入时可能有害。引起呼吸道刺激。蒸气可能导致困倦和头晕。
摄食:吞食有害。
延迟效应:肝和肾损害,光刻胶负胶,以及动物实验中有报道血液和GU髓有影响。
芯片光刻的流程详解(二)
所谓光刻,根据维基百科的定义,这是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,光刻胶工艺,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
光刻的基本原理是利用光致抗蚀剂(或称光刻胶)感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点,将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。
9,光刻胶品牌,去胶:湿法去胶,用溶剂、用NONG硫酸。负胶,98%H2SO4 H2O2 胶=CO CO2 H2O,正胶:BIN酮,干法去胶(ash)氧气加热去胶O2 胶=CO CO2 H2O,等离子去胶Oxygenplasma ashing,高频电场O2---电离O- O ,光刻胶, O 活性基与胶反应CO2,CO, H2O, 光刻检验
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