靶材输入电流及溅射时间可以控制，容易得到高精度的膜厚。较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排。基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上，且由于溅射粒子带有高能量，在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜，同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。薄膜形成初期成核密度高，光学镀膜加工厂，可生产10nm以下的极薄连续膜。靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产。靶材可制作成各种形状，配合机台的特殊设计做更好的控制及比较有效率的生产。
磁控溅射真空镀膜机导致不均的因素哪些？专业从事这方面工作的朋友其实还是比较的了解的，它主要可以分为以下几个因素就是：真空状态、磁场、亚气。
磁场是正交运作的，但你要将磁场强度做到一定均匀是不可能的，一般磁场强的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以会造成膜层厚度的不一致，不过在生产过程中，由于磁场的不均匀导致的膜层不均匀的情况却不是常见的，为什么呢？
衬板必须烘干水份才能安装，光学镀膜，烘干前，衬板的水分尽量抹干，工作架等部件用砂纸清洁后，光学镀膜加工，需要把真空室的所有灰尘清理干净，此可用吸尘器吸干净灰尘。安装衬板时，真空室及衬板都需要用酒精控拭干净。因使用电子枪及离子源辅助镀膜，可能会造成清洁困难，可使用喷沙等方法来清洁。镀膜常用在相机镜头、近视、老花镜等矫正眼镜上使用。镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。
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