PECVD设备 ICPECVD等离子体化学气相沉积系统
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产地:美国
NPE 4000(ICPM)ICPECVD等离子体化学气相沉
上海耀他科技有限公司
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磁控溅射镀膜机 NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统 那诺-马斯特
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产地:美国
NSC 3500(A)全自动磁控溅射系统概述 带有水冷或者加
上海耀他科技有限公司
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LPMS CVD12侧式真空气相沉积设备
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制冷量:887 W
最低製冷溫度:-90℃
真空泵抽氣速率:90 m³
真空气相沉积设备是一种用于电子产品防水保护的镀膜设备 工作时
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上海伯东进口原子层沉积设备 Thermal ALD
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化学气相沉积法在金属材料方面的使用沈阳鹏程真空技术有限责任公
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真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜 具体包括很
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有机高分子奈米薄膜 属高绝缘性 无 膜厚一致性的耐薄膜 其防
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主要生产 60℃至 140℃超低温制冷机组 60℃至 1
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应用领域:化学气相沉积炉(沉积炭)可用于以碳氢气体(如C3H
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化学气相沉积设备进口清关
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